金融界2024年7月28日消息，天眼查知识产权信息显示，广东中图半导体科技股份有限公司申请一项名为「一种桥链型图形化衬底的制备方法及桥链型图形化衬底「，公开号CN202410530051.9，申请日期为2024年4月。
专利摘要显示，本发明实施例公开了一种桥链型图形化衬底的制备方法及桥链型图形化衬底。该制备方法通过在平片衬底上制备初始掩膜图形相互独立的掩膜图案，利用该掩膜图案进行主刻蚀和过刻蚀两个步骤，在主刻蚀中先进行初始微结构的制作，而后利用三氟甲烷气体与掩膜图形发生反应，在初始微结构的底部生成聚合物中间反应产物，再通过初始微结构顶部的掩膜图形以及聚合物中间反应产物作为掩膜继续刻蚀平片衬底，形成中间微结构和中间桥链结构，最后，再通过过刻蚀对中间微结构和中间桥链结构进行修饰。本发明实施例解决了桥链型图形化衬底制备难度较大的问题，利用相互独立的掩膜图形，实现了桥链型图形化衬底的制备，有助于提供新型的图形化衬底。
