當前位置: 華文頭條 > 推薦

中圖科技申請橋鏈型圖形化襯底專利,解決橋鏈型圖形化襯底制備難度較大的問題

2024-08-11推薦

金融界2024年7月28日訊息,天眼查知識產權資訊顯示,廣東中圖半導體科技股份有限公司申請一項名為「一種橋鏈型圖形化襯底的制備方法及橋鏈型圖形化襯底「,公開號CN202410530051.9,申請日期為2024年4月。

專利摘要顯示,本發明實施例公開了一種橋鏈型圖形化襯底的制備方法及橋鏈型圖形化襯底。該制備方法透過在平片襯底上制備初始掩膜圖形相互獨立的掩膜圖案,利用該掩膜圖案進行主刻蝕和過刻蝕兩個步驟,在主刻蝕中先進行初始微結構的制作,而後利用三氟甲烷氣體與掩膜圖形發生反應,在初始微結構的底部生成聚合物中間反應產物,再透過初始微結構頂部的掩膜圖形以及聚合物中間反應產物作為掩膜繼續刻蝕平片襯底,形成中間微結構和中間橋鏈結構,最後,再透過過刻蝕對中間微結構和中間橋鏈結構進行修飾。本發明實施例解決了橋鏈型圖形化襯底制備難度較大的問題,利用相互獨立的掩膜圖形,實作了橋鏈型圖形化襯底的制備,有助於提供新型的圖形化襯底。